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PLUTO-M等離子清洗機/處理機

更新時間:2021-03-23

簡要描述:

PLUTO-M等離子清洗機/處理機 是針對于高校,科學研究所和企業實驗室,或者小批量生產的創新性企業而研發的創新型實驗平臺。我們收集了大量客戶使用信息,分析應用需求,將多年設計和制造經驗應用于小型化,多功能的等離子體表面處理設備。

型號:點擊量:20
品牌自營品牌應用領域環保,生物產業,能源,電子

PLUTO-M等離子清洗機/處理機

產品特點:

等離子源采用頻率為13.56MHz射頻發生器,同時具備物理清洗和化學清洗能力。

電源功率為200W,覆蓋常規處理需求

創新設計,可調整電極之間距離,調整等離子體濃度和強度,大提升處理效率和能力

真空腔體和管道連接件均采用316不銹鋼,電極6061航空鋁合金,配件材質精良,保證設備穩定高效運行

樣品處理面積可達125mm(大處理面積可達200mm,如有需求請咨詢銷售人員)

4.3寸工業級觸摸屏,操作簡單,可設置多種實驗參數

性能穩定可靠,質量穩定,自主研發,售后有保障

PLUTO-M等離子清洗機/處理機

產品參數:

1. 真空腔規格: 316不銹鋼腔體,直徑210mm*(深)230mm 約4L

2. 電極:兩個自適應平板電極,材質T6061鋁合金

3. 電極尺寸:120*135mm 間距20~75mm 可調

4. 等離子體發生器:RF射頻發生器,頻率:13.56MHz

5. 功率:0-200W連續可調,精度1W

6. 氣體控制:針式氣體流量閥,標配1路氣體

7. 控制方式:4.3寸工業控制觸摸屏

控制軟件功能:界面顯示實時工作狀態,

可顯示設置值與實際值,便于實時控制。

可自由設置等離子功率,通入氣體時間

全手動控制和全自動控制可選

8. 保護裝置:一鍵急停保護按鈕

等離子體表面處理系統Pluto-M?參數(標準配置)

外部尺寸

404*640*515mm

 

真空腔尺寸

直徑210mm*230mm

不銹鋼腔體

電極尺寸

125*125mm

多空自適應平板電極

等離子體發生器

RF射頻發生器,頻率:13.56MHz

自適應阻抗匹配電源

功率

0-200W連續可調

精度1W

真空計

熱電偶真空計 0-1000mT

 

供氣

1路氣體

6mm國標連接件(軟管)

控制方式

4.3寸觸摸屏

 

可 選 配 置

ALC

純鋁腔體

 

RF-300

等離子體發生器

頻率13.56MHz ,0-300W自動阻抗匹配電源

可調電極

可調節電極間距

電極間距20-60mm可調,改變等離子體場濃度特性

CM裝置

沉積鍍膜模塊

用于改變表面特性:

1.    沉積CF材料,樣品表面可以具有憎水的特性

2.    沉積含苯材料,樣品表面起到絕緣防水的特性

3.    沉積含有羥基的材料,提高樣品表面和其他材料的結合效果。

GP裝置

氣體純化裝置

 

PPU

粉體處理裝置

用于處理微納米級別顆粒

 

氣體收集裝置

用于收集等離子體化學反應后的氣體

 

小型氧氣發生器

用于制備氧氣,可取代氧氣罐

 

氣體混合裝置

可以根據可以要求進行混氣設計

 

感應耦合模塊

感應耦合等離子體裝置

 

加熱電極模塊

電極可以加熱,室溫~200度可調。

 

光譜儀模塊

可以增加光譜儀的接口,檢測等離子體光譜變化

 

電極轉換模塊

可以自由變換電極設計,樣品可以放在射頻電極上,也可以放在地電極上。從而實現不同的處理效果。

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