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真空等離子體涂覆(鍍膜)設備

更新時間:2021-03-23

簡要描述:

Pluto-MC 真空等離子體涂覆(鍍膜)設備 利用等離子體改性時,將試樣置于特定的離子處理裝置中,通過高能態的等離子轟擊試樣的表面,將能量傳遞給試樣表層的分子,使試樣發生熱蝕、交聯、降解和氧化反應,并使試樣表面發生C-F鍵和C-C鍵的斷裂,產生大量自由基或引進某些極性基團,從而優化試樣表面的性能。

型號:Pluto-MC點擊量:14
品牌其他品牌產地類別國產
應用領域化工

Pluto-MC 真空等離子體涂覆(鍍膜)設備 

產品簡介:

Pluto-MC利用等離子體改性時,將試樣置于特定的離子處理裝置中,通過高能態的等離子轟擊試樣的表面,將能量傳遞給試樣表層的分子,使試樣發生熱蝕、交聯、降解和氧化反應,并使試樣表面發生C-F鍵和C-C鍵的斷裂,產生大量自由基或引進某些極性基團,從而優化試樣表面的性能。

Pluto-MC 真空等離子體涂覆(鍍膜)設備 

產品特點:

Pluto-MC利用等離子體改性時,將試樣置于特定的離子處理裝置中,通過高能態的等離子轟擊試樣的表面,將能量傳遞給試樣表層的分子,使試樣發生熱蝕、交聯、降解和氧化反應,并使試樣表面發生C-F鍵和C-C鍵的斷裂,產生大量自由基或引進某些極性基團,從而優化試樣表面的性能。

等離子體對其改性的主要途徑是引發表面接枝,具體方法是用非聚合氣體(如Ar,H2,O2,N2和空氣等)對樣品表面進行等離子體處理,使其表而形成活性自由基,之后利用活性自由基引發功能性單體,使其在表面進行接枝聚合

利用沉淀反應進行表面改性,這是工業上目前應用多的方法。

產品特點:

1.    在現有設備基礎上,增加涂覆組件,可升級配置

2.    高精度控制,多參數設置,可控性佳

3.    已經有成熟的應用,可提供疏水涂覆材料

4.    都有電極間距可調設計,反應程度可控,有效控制涂覆效率

5.    可根據客戶需求,定制和設計工藝

 

系統組件設有儲料腔、加熱裝置、保溫裝置和流量控制裝置。
 儲料腔設計為可拆結構,便于清洗和更換不同的原料;
 加熱裝置可氣化反應物質,并保持一定溫度;

流量控制裝置對反應物進行流量控制,使氣氛按需要的氣量喂入到反應腔內

技術參數:

● 加液容積:10-150ml

● 溫控范圍:加熱(室溫~200℃)保溫(室溫~200℃)
● 流量控制:轉子流量計
● 管路:多4路氣體(同時可通入4種物質)

● 電源電壓:交流220V

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