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  • 磁控濺射鍍膜系統
    磁控濺射鍍膜系統

    磁控濺射鍍膜系統,是針對特定市場和客戶群體開發的新產品,與目前市場上普遍采用的鍍膜設備相比具備以下突出優勢:單體同步精密監控,實時膜厚分布控制。因此適合做各類高難度鍍膜產品。單片薄膜產品的面積越大,優勢越明顯。而電子束鍍膜機還增加了雙面鍍膜功能,適合半導體激光器的端面鍍膜。 通用磁控濺射鍍膜機-武漢賽斯特

    時間:2021-04-01型號:瀏覽量:28
  • SDC-500 全自動接觸角測量儀
    SDC-500 全自動接觸角測量儀

    SDC-500全自動接觸角測量儀 產品簡介: 是采用外形圖像分析(Shapeimageanalysis)方法測量樣品表面接觸角、潤濕性能、表界面張力、表面能、滾動(滑落角)、前進后退角及滯后性、多點自動智能接觸角測量等性能的設備,設備自動化程度高,可搭配自動化流水線實現在線擬合。

    時間:2021-03-23型號:瀏覽量:44
  • 勻膠顯影機
    勻膠顯影機

    勻膠顯影機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝,制版的表面顯影。一般顯影機由動力系統、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓(水)輥、涂膠槽等部分組成。

    時間:2021-03-22型號:瀏覽量:17
  • 無掩模光刻機
    無掩模光刻機

    無掩模光刻機美國AMP(AdvancedMicroPatterning,LLC)公司憑借多年的光刻設備生產經驗和多項無掩模曝光技術,已成為無掩模紫外光刻領域的。國內參考用戶較多!

    時間:2021-03-22型號:瀏覽量:14
  • 全自動曝光機
    全自動曝光機

    全自動曝光機OAI在半導體行業中擁有超過40年的制造經驗,通過新的精英級光刻設備滿足了日益增長的動態市場挑戰。

    時間:2021-03-22型號:瀏覽量:27
  • 等離子刻蝕機
    等離子刻蝕機

    等離子刻蝕機提供一系列的解決方案來滿足客戶的生產和開發要求。通過一系列的技術的開發,SPTS能為客戶提供一系列的先進的工藝,比如功率MOSFET和200mm和300mm晶圓上的端封裝(3D封裝和芯片級封裝)。

    時間:2021-03-22型號:瀏覽量:18
  • 手動/半自動曝光機
    手動/半自動曝光機

    手動/半自動曝光機光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,光刻機,紫外曝光機等;

    時間:2021-03-22型號:瀏覽量:22
  • IPG激光劃片機
    IPG激光劃片機

    IPG激光劃片機能適應單晶硅、多晶硅、非晶硅電池劃片和硅、鍺、砷化鎵半導體材料的劃片和切割。比如厚片(如AP公司0.7mm單晶硅多晶硅;1.2mm非晶硅帶等)。

    時間:2021-03-22型號:瀏覽量:21
  • CMP研磨拋光系統
    CMP研磨拋光系統

    CMP研磨拋光系統,該機型是PM5型的升級版。能夠完成4英寸及以下尺寸樣品的小批量處理,整個過程全封閉控制,并內置自清洗功能,提升對操作人員的安全保護;全部采用電腦程序控制,可實現數據傳輸、工藝存儲及數據實時監控與反饋等功能。

    時間:2021-03-22型號:瀏覽量:15
  • ALD原子層沉積系統
    ALD原子層沉積系統

    ALD原子層沉積系統存儲電容器絕緣層-銅連線間的高縱橫比擴散勢壘區 有機發光二極管和聚合物的無針孔鈍化層 鈍化晶體硅太陽能電池

    時間:2021-03-22型號:瀏覽量:16
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